Água de colônia [eau de Cologne]; Batons para os lábios; Brilho para os lábios; Cílios postiços; Cosméticos; Cosméticos para as sobrancelhas; Cosméticos para os cílios; Cremes cosméticos; Esmalte para unhas; Estojos de cosméticos [kits de cosméticos]; Lápis de sobrancelhas; Lápis para uso cosmético; Lenços impregnados com preparações para remover maquiagem; Loções para uso cosmético; Maquiagem para o rosto; Máscaras de beleza; Perfumes; Pó para maquiagem; Pomadas para uso cosmético; Produtos cosméticos para cuidados da pele; Produtos cosméticos para os cílios; Produtos para maquiagem; Produtos para o cuidado das unhas; Produtos para remover maquiagem; Removedor de cosmético;
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7 despacho(s) publicado(s) na Revista da Propriedade Industrial.
11/06/2024Deferimento da petição<b>Protocolo:</b> 850240203064 (29/04/2024) <br /> <b>Petição (tipo):</b> Anotação de alteração de nome, sede ou endereço (348.3)<br /><b>Requerente: </b>BRUNA RUELA TAVARES<br /><b>Procurador: </b>BEERRE ASSESSORIA EMPRESARIAL LTDA<br /><b>Detalhes do despacho:</b>Anotada a alteração de sede.<br />código IPAS270 · RPI 2788
10/10/2023Requerimento não provido (mantida a concessão)<b>Protocolo:</b> 850200357950 (20/10/2020) <br /> <b>Petição (tipo):</b> Nulidade administrativa de registro de marca (336.1)<br /><b>Requerente: </b>SEPAC - SERRADOS E PASTA DE CELULOSE LTDA.<br /><b>Procurador: </b>EDUARDO MARTINELLI JÚNIOR<br />código IPAS532 · RPI 2753
17/11/2020Notificação de instauração de processo de nulidade a requerimento<b>Protocolo:</b> 850200357950 (20/10/2020) <br /> <b>Petição (tipo):</b> Nulidade administrativa de registro de marca (336.1)<br /><b>Titular(es): </b>SEPAC - SERRADOS E PASTA DE CELULOSE LTDA.<br /><b>Procurador: </b>EDUARDO MARTINELLI JÚNIOR<br />código IPAS400 · RPI 2602
25/08/2020Concessão de registrocódigo IPAS158 · RPI 2590
09/06/2020Deferimento do pedidocódigo IPAS029 · RPI 2579
18/02/2020Notificação de oposiçãocódigo IPAS423 · RPI 2563
10/09/2019Publicação de pedido de registro para oposição (exame formal concluído)código IPAS009 · RPI 2540